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文章来源:人工智能学家
内容字数:1805字
内容摘要:最近,来自各行业的自媒体消息声称,清华大学EUV项目将ASML的光刻机进行了巨大化,实现了光刻机的国产化,并附带图片显示该项目已在雄安新区启动。然而,中国电子工程设计院有限公司(以下简称中国电子院)官方微博在9月18日发布声音,指出该项目实际上并非传言中的国产光刻机工厂,而是北京高能同步辐射光源项目(HEPS)!HEPS位于北京怀柔雁栖湖畔,是国家“十三五”重要科技基础设施之一。它是我国首台高能同步辐射光源,也是全球范围内首个…
原文链接:原文链接:[点此阅读原文:让大家失望了!光刻机工厂?NO!]
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