探秘EUV光刻：芯片制造工程技术与科学原理详解 | 陈经

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欧洲制造设备制造商协会关于光刻技术的最新动态

原标题：EUV光刻厂？芯片制造与光刻的工程技术和科学原理介绍 | 陈经

关键词：光刻、光源、芯片、晶体管、加速器

文章来源：《人工智能学家》

文章字数：18711字

内容摘要：最近，清华大学提出的SSMB-EUV光源技术引起了公众极大兴趣。有一种说法认为，中国有望建立起产生EUV光源的加速器，不同频率的光源可用于28纳米、14纳米、7纳米、5纳米等多种芯片制程，这种“光刻厂”可以替代荷兰ASML公司的EUV光刻机，通过出人意料的创新思维打破美国垄断。这种设想简单易懂，让人感觉国产先进光刻机有了一线生机。公众对SSMB-EUV这种复杂的同步辐射光源产生兴趣的根本原因是渴望突破美国技术领先地位…

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