清华大学发布震撼全球的EUV光刻厂方案及相关论文综述

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原标题：清华提出震撼世人的EUV光刻厂方案，一文汇总有关信息和论文

关键字：报告,光刻,光源,电子束,稳态

本文摘自人工智能学家，总字数为6237字。内容涵盖来自铁军哥、平原公子和其他资深行业专家的信息，转载自电子技术应用ChinaAET。EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机是制造芯片的关键设备之一，其光源技术一直是制约其商业化应用的重要因素，成为中国EUV光刻机发展的瓶颈。EUV光源技术要求极为严苛，需要使用波长仅为13.5纳米的极紫外光源，高功率激光与特定材料相互作用，解决材料选择等问题。

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文章来源：人工智能学家

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